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產(chǎn)品分類 / PRODUCT

半導(dǎo)體晶圓紫外線（UV）臭氧清洗設(shè)備

更新時(shí)間：2024-09-23      瀏覽次數(shù)：163

半導(dǎo)體晶圓紫外線（UV）臭氧清洗設(shè)備

半導(dǎo)體晶圓紫外線（UV）臭氧清洗設(shè)備
波長(zhǎng)185納米、254納米
目的清潔/修改
行業(yè)半導(dǎo)體制造
待安裝設(shè)備半導(dǎo)體清洗設(shè)備

UV照射設(shè)備用于清洗半導(dǎo)體晶圓。紫外線照射會(huì)產(chǎn)生臭氧，去除晶圓表面的有機(jī)物。半導(dǎo)體晶圓紫外臭氧清洗設(shè)備可用于原型/開(kāi)發(fā)和批量生產(chǎn)。原型機(jī)和開(kāi)發(fā)機(jī)是半自動(dòng)的，生產(chǎn)能力低，而量產(chǎn)機(jī)是自動(dòng)化機(jī)。

UV照射設(shè)備采用185nm和254nm汞燈作為光源。當(dāng)185nm紫外線被氧氣吸收時(shí)，產(chǎn)生臭氧（O3）并產(chǎn)生活性氧。

技術(shù)文件《審查半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的紫外線照射設(shè)備以實(shí)現(xiàn)成本降低》


這個(gè)應(yīng)用程序用過(guò)的解決問(wèn)題的例子

  • 更換晶圓周邊曝光光源，成本降低30%以上

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    • 目的

      接觸

    • 行業(yè)

      半導(dǎo)體制造

    • 設(shè)備

      涂布機(jī)開(kāi)發(fā)商

    • 波長(zhǎng)

      365nm

    • 任務(wù)

      初始成本和運(yùn)行成本降低



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